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產(chǎn)品介紹：

    硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。 

    實時對圖像進行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果。



產(chǎn)品特點：

■ 適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等； 

■ 使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時極大程度降低此項工作強度； 

■ 實時對圖像進行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果； 

■ 使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術(shù)先進，像素較高， 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富； 

■ 傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設(shè)計； 

■ 有效分辨率為 200 萬像素； 

■ 所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



實際觀察效果：





硅片放大效果100倍



 



硅片放大效果200倍
 


硅片放大效果400倍


推薦工作條件：

■ 溫度：23±2℃

■ 濕度：60%~70%

■ 無強磁場、不與高頻設(shè)備鄰近



典型用戶：

浙江昱輝、江西塞維ＬＤＫ、常州天合等